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申请/专利权人：先进微装置公司
申请日：2004-10-26
公开（公告）日：2006-12-27
公开（公告）号：CN1886698A
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种使用具有发出曝光图案24的透镜32的光刻系统10制造装置的方法。兼容浸渍媒质26可位在光敏抗蚀光刻胶层34与透镜之间。光刻胶层其可设置在晶片上与透镜可与兼容浸渍媒质密切接触。然后以曝光图案穿透兼容浸渍媒质而使光刻胶层曝光。
专利权项：1.一种使用光刻系统10制造装置的方法，该光刻系统10具有发出曝光图案24的透镜32，该方法包括：提供晶片12及设置在晶片上的光刻胶层34；将兼容浸渍媒质26定位在光刻胶层与透镜之间；以及以曝光图案使光刻胶层曝光，该曝光图案穿过兼容浸渍媒质。
百度查询： 先进微装置公司 使用兼容浸渍媒质浸渍光刻方法
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