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电子发射元件、使用所述元件的设备和用于制造所述元件的方法专利

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申请/专利权人:夏普株式会社

申请日:2011-02-24

公开(公告)日:2014-04-09

公开(公告)号:CN102163524B

专利技术分类:...场致发射阴极[2006.01]

专利摘要:本发明提供一种电子发射元件,其包括:第一电极;绝缘细粒层,其形成在第一电极上并且由绝缘细粒构成;以及第二电极,其形成在绝缘细粒层上,其中绝缘细粒层设置有在其表面中形成的凹陷,该表面面对第二电极,每个凹陷具有的深度小于绝缘细粒层的厚度,并且当电压施加在第一电极与第二电极之间时,从第一电极提供的电子在绝缘细粒层中加速,从而经过第二电极而发射。

专利权项:一种电子发射元件,其包括:第一电极;绝缘细粒层,其被形成在所述第一电极上并且由绝缘细粒构成;以及第二电极,其被形成在所述绝缘细粒层上,其中所述绝缘细粒层被设置有在其表面中形成的凹陷,所述表面面对所述第二电极,每个所述凹陷具有的深度小于所述绝缘细粒层的厚度,并且当电压被施加在所述第一电极与所述第二电极之间时,从所述第一电极提供的电子在所述绝缘细粒层中加速,从而经过所述第二电极而发射,其中所述凹陷被涂覆有碳薄膜。

百度查询: 夏普株式会社 电子发射元件、使用所述元件的设备和用于制造所述元件的方法

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