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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日：2003-10-29
公开（公告）日：2005-12-14
公开（公告）号：CN1708833A
专利技术分类：.....应用气态化合物的还原或分解产生固态凝结物的，即化学沉积[2006.01]
专利摘要：本发明的热处理装置配备：保持多个基板的保持器；搬入所述保持器的反应容器；把处理气体供给所述反应容器的处理气体供给机构；和在所述处理气体供给时，对所述反应容器加热，对基板施以成膜处理的加热机构，使在一批量处理中预定处理的基板枚数数据与所述处理气体的流量参数目标值数据对应的流量参数表数据储存在流量参数表数据存储部内。控制机构根据在一批量处理中预定处理的基板实际枚数，基于在所述流量参数表数据存储部内储存的流量参数表数据，得到所述处理气体流量参数目标值数据，并遵从该目标数据，控制所述处理气体供给机构。所述流量参数目标值数据按照如下方式决定：使在预定处理的基板枚数相互各异的批量处理间成膜速度一致。
专利权项：1、一种热处理装置，其特征为，包括：保持多个基板的保持器；搬入前述保持器的反应容器；把处理气体供给所述反应容器的处理气体供给机构；在供给所述处理气体时，对所述反应容器加热，在基板上施以成膜处理的加热机构；储存使在一批量处理中预定处理的基板枚数数据与所述处理气体流量参数的目标值数据对应的流量参数表数据的流量参数表数据存储部；和根据在一批量处理中预定处理的基板实际枚数，基于在所述流量参数表数据存储部储存的流量参数表数据，得到所述处理气体的流量参数的目标值数据，并遵从该目标值数据控制所述处理气体供给机构的控制机构，所述流量参数的目标值数据按照如下方式决定：使在预定处理的基板枚数相互各异的批量处理间成膜速度一致。
百度查询： 东京毅力科创株式会社 热处理装置和热处理方法
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