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申请/专利权人：日本电气株式会社
申请日：2003-06-25
公开（公告）日：2004-02-18
公开（公告）号：CN1475599A
专利技术分类：..辐射法，例如光分解、辐射分解、粒子辐射[2006.01]
专利摘要：将提供一种激光CVD设备，该设备能够加强由激光CVD形成的膜与基底的膜的形成面之间的粘连，并且防止膜本身的破裂。该设备包括：等离子预处理单元，其用于通过电弧放电将预处理气体变成等离子状态，并且将等离子状态的气体提供到膜的形成面；以及膜的形成单元，其具有用于密封膜合成气体而与外部大气隔离的装置，还具有用于将激光束辐射到膜合成气体的装置，其中在基底的膜的形成面的上面形成膜。
专利权项：1.一种激光CVD设备，包括：等离子单元，其用于在大气中将预处理气体变成等离子状态并且将等离子气体提供到基底；用于将激光束辐射到基底上的淀积区域的装置；用于将膜合成气体提供到淀积区域的装置；和用于密封膜合成气体而与外部大气隔离的装置，其中，所述基底的淀积区域由所述等离子单元预处理，并且通过所述激光束激励膜合成气体，在所述基底的淀积区域上面形成膜。
百度查询： 日本电气株式会社 激光CVD设备与激光CVD方法
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