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申请/专利权人：优志旺电机株式会社
申请日：2018-09-05
公开（公告）日：2020-04-21
公开（公告）号：CN111050846A
专利技术分类：.利用光（A61N5/01优先）[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种通过照射紫外线进行杀菌处理的方法，其能够抑制对人体的影响，进而还能够抑制紫外线照射后产生的异味。该杀菌方法具有下述工序：对手指或手臂的皮肤照射波长200nm以上且230nm以下的紫外线的工序a，和在所述皮肤的照射了所述紫外线的区域涂布含有选自以下的氨基酸组A中的至少一种氨基酸或氨基酸衍生物而成的皮肤外用剂、化妆品、或水溶液的工序b氨基酸组A：缬氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、谷氨酸、精氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、脯氨酸、甘氨酸。
专利权项：1.一种杀菌方法，其特征在于，具有下述工序：对手指或手臂的皮肤照射波长200nm以上且230nm以下的紫外线的工序a，和在所述皮肤的照射了所述紫外线的区域涂布含有选自以下的氨基酸组A中的至少一种氨基酸或氨基酸衍生物而成的皮肤外用剂、化妆品、或水溶液的工序b；氨基酸组A：缬氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、谷氨酸、精氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、脯氨酸、甘氨酸。
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