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申请/专利权人：长沙新材料产业研究院有限公司
申请日：2017-12-27
公开（公告）日：2020-08-07
公开（公告）号：CN108149223B
专利技术分类：..向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法[2006.01]
专利摘要：本发明涉及一种MPCVD腔体结构及MPCVD设备，包括中空的本体，所述本体上设有进气管，本体内壁上设有多个与进气管连通的进气口，所述多个进气口至少分为一层，同一层的各进气口均匀分布于本体内壁的同一高度处；所述本体上设有与本体内腔连通的出气管。本发明的腔体结构中气体经过进气管，多个进气口，均匀进入腔体，可保证腔体内部气体的均匀性；同时，进气口大小不同，可保证每个进气口的气流量基本相同，保障进气的均匀性；本发明设备设计紧凑，结构合理，便于操作，等离子体稳定且分布均匀，适于制备大面积、均匀的MPCVD沉积产品。
专利权项：1.一种MPCVD腔体结构，包括中空的本体（1），其特征在于，所述本体（1）上设有进气管（3），本体（1）内壁上设有多个与进气管（3）连通的进气口（6），所述本体（1）上设有与本体（1）内腔连通的出气管（17）；所述进气管（3）的数量为多个，各进气管（3）沿本体周向均匀分布；所述多个进气口（6）分为所处高度位置不同的多层，单层进气口（6）中进气口的数量为多个且位于同一高度位置，单层进气口（6）中各进气口均匀分布于本体（1）内壁；所述进气口的气流入设方向斜向下射入本体内腔，所述进气口的气流入射方向与竖直方向的夹角为50-70°；本体侧壁（15）内设有环状气路（14），所述环状气路（14）分别与进气口（6）和进气管（3）连通；位置越接近进气管（3）的进气口的横截面积越小；本体侧壁（15）上开设有抽气孔（13），所述抽气孔（13）与抽真空设备的进气口连通；所述抽真空设备通过管道与抽气孔（13）连通；所述抽气孔（13）的直径小于3mm，抽气孔（13）的数量为多个；本体侧壁（15）内部设有冷却腔（18），本体侧壁（15）上设有与冷却腔（18）连通的进水口（2）和出水口（7），所述进水口（2）设置于本体侧壁底部，所述出水口（7）设置于本体侧壁上部；所述环状气路（14）位于冷却腔（18）内侧。
百度查询： 长沙新材料产业研究院有限公司 一种MPCVD腔体结构及MPCVD设备
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