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申请/专利权人：株式会社MTG
申请日：2019-05-30
公开（公告）日：2020-11-27
公开（公告）号：CN112004442A
专利技术分类：..由两层或多层的（A47C27/16优先）[2006.01]
专利摘要：本发明涉及的作为缓冲装置的一例的垫主体10具备：作为缓冲件的氨基甲酸酯层17，具有使用者的载置面；用于使缓冲件在与载置面相交的方向上弯曲的机构所包含的气囊31，氨基甲酸酯层17具有：在面内方向上沿作为第一方向的一例的Y方向延伸的多个第一部分山部18A；及在多个第一部分之间与第一部分一体形成的、比第一部分更容易变形的第二部分槽部18B。
专利权项：1.一种缓冲装置，其特征在于，具备：具有使用者的载置面的缓冲件；用于使所述缓冲件在与所述载置面相交的方向上弯曲的机构，所述缓冲件具有：在所述载置面的面内方向上沿第一方向延伸的多个第一部分；以及在多个所述第一部分之间与所述第一部分一体形成的、比所述第一部分更容易变形的第二部分。
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