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缓冲结构及缓冲件专利

发布时间:2022-01-24 14:57:37 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 缓冲结构及缓冲件

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申请/专利权人:联想(北京)有限公司

申请日:2021-05-28

公开(公告)日:2022-01-18

公开(公告)号:CN215555793U

专利技术分类:....有专门适用于接纳内装物的形状[2006.01]

专利摘要:本申请提供一种缓冲结构及缓冲件,涉及产品包装技术领域。其中,缓冲结构包括:本体,所述本体包括层叠设置的第一缓冲层和第二缓冲层,所述第二缓冲层至少设置于所述第一缓冲层的一侧表面;其中,所述第一缓冲层和所述第二缓冲层采用同种材料制成,且形成所述第二缓冲层的材料的密度大于形成所述第一缓冲层的材料的密度;第一切割缝隙,至少用于切割所述第一缓冲层,以使所述本体可沿所述第一切割缝隙折叠。本申请技术方案能够解决缓冲材料受限于材料本身的密度,对产品的缓冲和保护可靠性差的技术问题。

专利权项:1.一种缓冲结构,其特征在于,包括:本体,所述本体包括层叠设置的第一缓冲层和第二缓冲层,所述第二缓冲层至少设置于所述第一缓冲层的一侧表面;其中,所述第一缓冲层和所述第二缓冲层采用同种材料制成,且形成所述第二缓冲层的材料的密度大于形成所述第一缓冲层的材料的密度;第一切割缝隙,至少用于切割所述第一缓冲层,以使所述本体可沿所述第一切割缝隙折叠。

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