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申请/专利权人：大连理工大学
摘要：本发明公开了一种在常压下快速晶化合成尺寸均一小晶粒高钛含量钛硅分子筛TS‑1的合成方法。本发明提出的TS‑1分子筛制备技术，与目前研究报道的TS‑1分子筛合成技术相比同时具有下述多方面的优点：1在常压、90‑99.5℃下晶化24‑60小时即可实现高钛含量TS‑1分子筛快速合成，该法特别适合TS‑1分子筛的大规模生产；2模板剂可循环利用，因而不仅能大幅度地降低TS‑1分子筛的生产成本，还可避免含模板剂污水的排放；3不使用无机碱；4硅和钛的利用率接近100％；5合成所得的TS‑1分子筛晶体，尺寸均一、晶粒较小150～200nm，作为催化剂或催化剂载体更有利于反应物和产物的传质扩散。
主权项：1.一种在常压下快速合成高钛含量钛硅分子筛TS-1的制备方法，其特征在于：用SiO2固体粉末、钛酸酯和有机模板剂的水溶液在常压、低温条件下晶化合成高钛含量的钛硅分子筛TS-1，晶化时间为24-60小时，晶化温度为90-99.5℃，所得TS-1分子筛的SiTi原子比在100-20之间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 大连理工大学 一种循化使用晶化母液，在常压下快速合成高钛含量钛硅分子筛TS-1的制备方法
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