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申请/专利权人：FEI 公司
申请日：2021-07-23
公开（公告）日：2022-01-25
公开（公告）号：CN113972123A
专利技术分类：..调整聚焦的方法[2006.01]
专利摘要：本文公开了用于粒子束聚焦的设备和方法，适用于样本制备或测试环境，包括基于SEM的纳米探测平台。当粒子束入射到样本表面上时，载物台电流用作斑点大小的指示器。通过扫描或搜索工作距离控制的设置，使用具有最大（或最小）载物台电流的控制值来设置所述样本表面处的波束束腰。可替代地，可以使用反射电流的最小值（或最大值）。可以类似地调整消像散器控制以减少像散。控制设置的扫描可以与将所述波束扫掠过所述样本上的感兴趣区域同时进行。可以使用弯曲的扫掠图案。能量测量可用作电流测量的替代。本文公开了纳米探测工作流的应用。
专利权项：1.一种设备，其包含：粒子束源，所述粒子束源被配置成将粒子束引导到样本的表面上，所述粒子束源具有用于使所述粒子束成形的控制；一个或多个硬件处理器，所述一个或多个硬件处理器具有与其耦合的存储器，所述一个或多个硬件处理器进一步耦合到所述粒子束源；其中所述存储器存储指令，所述指令在由所述一个或多个硬件处理器执行时使所述一个或多个硬件处理器：扫描所述控制，同时对从所述粒子束入射到所述样本的所述表面上得到的电流或能量进行空间未分辨的测量；以及基于测量的电流或能量的至少一个量值将所述粒子束聚焦在所述样本的所述表面。
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