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申请/专利权人：韩国生产技术研究院
申请日：2020-07-15
公开（公告）日：2022-03-01
公开（公告）号：CN114127325A
专利技术分类：...渗氮[2006.01]
专利摘要：根据本发明的实施例提供一种氮化设备。根据本发明的实施例，氮化设备包括：反应室，在反应室中形成处理空间从而能够进行金属氮化；处理气体供应器，将包含氨气的处理气体供应到反应室；排放器，通过排放器排放在反应室中分解或未分解的处理气体；传感器，检测反应室内的氢的分压；以及控制器，从传感器接收氢的分压以计算反应室内的氮化势值，并与氮化势值一起控制反应室的内部温度和供应到反应室中的处理气体的流速。
专利权项：1.一种氮化设备，包括：反应室，所述反应室包括金属被氮化的处理空间；处理气体供应器，所述处理气体供应器用于向所述反应室供应包含氨气的处理气体；排放器，所述排放器用于排放在所述反应室中分解或未分解的所述处理气体；传感器，所述传感器用于感测所述反应室内的氢的分压；以及控制器，所述控制器用于通过从所述传感器接收氢的所述分压来计算所述反应室内的氮化势，并且基于所述氮化势控制所述反应室的内部温度和供应给所述反应室的所述处理气体的流速，其中，所述控制器在所述氨气注入到所述反应室中之后关闭所述处理气体供应器，使所述反应室的所述内部温度升高到预设温度以分解注入的所述氨气，并且通过控制所述处理气体供应器的打开或关闭来控制注入到所述反应室中的所述处理气体的所述流速，以在所述内部温度达到所述预设温度之后使所述氮化势保持在预设的基准值。
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