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金属氧化物、金属氧化物的沉积方法及金属氧化物的沉积装置专利

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申请/专利权人:株式会社半导体能源研究所

申请日:2021-02-17

公开(公告)日:2022-10-04

公开(公告)号:CN115152006A

专利技术分类:.....应用气态化合物的还原或分解产生固态凝结物的,即化学沉积[2006.01]

专利摘要:提供一种新颖的金属氧化物的沉积方法。本发明的一个方式包括如下步骤:将第一前驱物提供至腔室的第一工序;将第二前驱物提供至腔室的第二工序;将第三前驱物提供至腔室的第三工序;以及在第一工序后、第二工序后及第三工序后都将氧化剂引入腔室内的第四工序。第一至第三前驱物分别是不同种类的前驱物,在第一至第四工序中,将配置在腔室中的衬底加热至300度以上且第一至第三前驱物的分解温度以下的温度。

专利权项:1.一种金属氧化物的沉积方法,包括如下步骤:将第一前驱物提供至腔室的第一工序;将第二前驱物提供至腔室的第二工序;将第三前驱物提供至腔室的第三工序;以及在所述第一工序后、所述第二工序后及所述第三工序后都将氧化剂引入腔室内的第四工序,其中,所述第一至第三前驱物分别是不同种类的前驱物,并且,在所述第一至第四工序中,将配置在所述腔室中的衬底加热至300℃以上且在所述第一至第三前驱物的分解温度中最低的温度以下的温度。

百度查询: 株式会社半导体能源研究所 金属氧化物、金属氧化物的沉积方法及金属氧化物的沉积装置

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