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申请/专利权人：康宁公司
申请日：2022-05-10
公开（公告）日：2022-11-18
公开（公告）号：CN217838744U
专利技术分类：
专利摘要：纹理基板包括纹理表面，所述纹理表面包含第一特征、第二特征、第三特征或第四特征中的两个或更多个。第一特征包括约40纳米至约300纳米的高度和约800纳米至约3微米的最大维度。第二特征包括约10纳米至约70纳米的高度和约200纳米至约800纳米的最大维度。第三特征包括约5纳米至约30纳米的深度和约500纳米至约5微米的最大维度。第四特征包括约3纳米至约10纳米的高度和约10纳米至约100纳米的最大维度。
专利权项：1.一种纹理基板，包括：基板厚度，其限定在第一主表面和与所述第一主表面相对的第二主表面之间，该基板厚度沿着从所述第二主表面到所述第一主表面且垂直于所述第一主表面的方向延伸；其特征在于所述第一主表面包括纹理表面，所述纹理表面包括以下的两个或更多个：第一特征，包括40纳米至300纳米的第一高度和800纳米至3微米的垂直于第一高度方向的第一最大维度，且所述第一高度的方向与所述基板厚度的方向相同；第二特征，包括10纳米至70纳米的第二高度和200纳米至800纳米的垂直于第二高度方向的第二最大维度，且所述第二高度的方向与所述基板厚度的方向相同；第三特征，包括5纳米至30纳米的第三深度和500纳米至5微米的垂直于第三深度方向的第三最大维度，且所述第三深度的方向与所述基板厚度的方向相反；或者第四特征，包括3纳米至10纳米的第四高度和10纳米至100纳米的垂直于第四高度方向的第四最大维度，且所述第四高度的方向与所述基板厚度的方向相同；以及其中，所述纹理基板的雾度为2％或更小，所述第一主表面的表面粗糙度Ra为1纳米至100纳米，并且所述第一主表面的表面粗糙度Rq为1纳米至100纳米。
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