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光场成像系统及光场成像方法专利

发布时间:2022-12-08 20:54:34 来源:龙图腾网 导航: 龙图腾网> 最新专利技术> 光场成像系统及光场成像方法

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申请/专利权人:首都师范大学

申请日:2020-12-02

公开(公告)日:2022-12-06

公开(公告)号:CN112702474B

专利技术分类:.视频图像信号电路(包含电子图像传感器或其控制装置的照相机或照相机模块 H04N23/00)[2006.01]

专利摘要:本发明公开一种光场成像系统,包括:光源装置,向被测目标发射特定频率范围的电磁波束;光场采集装置,接收由所述被测目标反射的电磁波束形成的4D光场;以及图像处理单元,对所述光场采集装置接收到的4D光场进行处理而生成所述被测目标的4D光场信息;其中,图像处理单元执行以下处理:获取所述被测目标的4D光场信息;利用所述4D光场信息,计算所述4D光场信息中的高光图像;结合所述高光图像对所述4D光场信息进行强度‑方向滤波和重构,获得所述4D光场信息层析后的重构图像。根据上述结构,实现了对特定多层材料的逐层分辨与分别重构成像,避免了传统方法中来自不同层信息的混杂。

专利权项:1.一种光场成像系统,其特征在于,包括:光源装置,向被测目标发射特定频率范围的电磁波束;光场采集装置,接收由所述被测目标反射的电磁波束形成的4D光场;以及图像处理单元,对所述光场采集装置接收到的4D光场进行处理而生成所述被测目标的4D光场信息;其中,图像处理单元执行以下处理:获取所述被测目标的4D光场信息;利用所述4D光场信息,计算所述4D光场信息中的高光图像;结合所述高光图像对所述4D光场信息进行强度-方向滤波和重构,获得所述4D光场信息层析后的重构图像;所述图像处理单元获取被测目标的4D光场信息时,所述被测目标具有多层结构、且每层结构对所述电磁波束具有不同的强度-方向特性;获取的所述被测目标的4D光场信息设为LFx,y,u,v时,0≤x≤xraw,0≤y≤yraw,0≤u≤uraw,0≤v≤vraw,0≤LFx,y,u,v≤1,xraw、yraw、uraw、vraw为所述4D光场信息LFx,y,u,v的尺寸;所述被测目标包括镜面反射层和漫反射层;计算所述4D光场信息中的高光图像时,以强度为判据按照以下公式1计算所述4D光场信息LFx,y,u,v的饱和图像Lsaturationx,y,u,v: 其中,T为用于判别被测目标的镜面反射与漫反射的阈值,0≤T≤1,K0为用于平滑图像的卷积核,0K0≤min{xraw,yraw};并且,按照以下公式2依据所述饱和图像Lsaturationx,y,u,v计算高光图像Lglossx,y,u,v: 其中,K为用于判别所述被测目标的镜面反射对周边像素影响的卷积核,0K≤min{xraw,yraw};结合所述高光图像对所述4D光场信息进行强度-方向滤波和重构,获得所述4D光场信息层析后的重构图像时,获取所述被测目标的镜面反射层中任一点的重构结果Esurfacex0,y0和漫反射层中任一点的重构结果Ebasex0,y0,然后汇总镜面反射层中所有点及漫反射层中所有点的重构结果,获得重构图像Esurface、Ebase;按照以下公式3、公式4获得所述重构图像Esurfacex0,y0和Ebasex0,y0:Esurfacex0,y0=∫∫Lzx′,y′,u,v·Lglossx′,y′,u,vdudv公式3,Ebasex0,y0=∫∫Lzx′,y′,u,v·1-Lglossx′,y′,u,vdudv公式4,其中,Lzx′,y′,u,v为以uv平面和x′y′平面所表示的所述4D光场信息,其计算公式为: 其中,F为uv平面与xy平面间的距离,z为uv平面与x’y’平面间的距离;Lglossx′,y′,u,v由以下公式6、公式7确定:

百度查询: 首都师范大学 光场成像系统及光场成像方法

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