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申请/专利权人：湖北芯洁电子科技有限公司
摘要：本发明涉及静电卡盘清洗设备领域，公开了一种E‑Chuck清洗工艺。包括以下施工步骤：S1：清洗前准备工作；S2：遮蔽冲洗擦拭；S3：遮蔽浸泡；S4：去除遮蔽；S5：浸泡风干；S6：擦拭；S7：打磨；S8：超声波清洗；S9：高压水洗；S10：搬入无尘室再进行超声波冲洗；S11：超纯水清洗；S12：去除遮蔽；S13：擦拭；S14：清洗后处理工序。
主权项：1.一种E-Chuck清洗工艺，其特征在于，包括以下清洗步骤：S1：清洗前准备工作；S2：遮蔽冲洗擦拭，对给电部使用金属胶带进行遮蔽，并对冷却管内通入纯水清洗15min，再采用风机对部件表面和冷却管进行吹干，对冷却管采用金属胶带进行遮蔽，再用擦擦克林加入丙酮后拧干对黑色陶瓷面和Y2O3熔射面进行擦拭；S3：遮蔽浸泡，对部件铝面和氧化铝膜面采用3M黑色胶带进行遮蔽，用纯水冲洗部件表面，在作业台上铺设无尘布，将ESC陶瓷熔射面压在无尘布上，进行浸泡冲洗，最后用擦擦克林加水拧干后对部件黑色陶瓷面和Y2O3熔射面进行擦拭；S4：去除遮蔽，去除黑色遮蔽胶带，保留给电部、冷却管金属胶带遮蔽，用纯水对部件表面进行冲洗，小孔内单独冲洗，再将部件放在纯水槽内流水清洗30min；S5：浸泡风干，将部件放入超纯水中浸泡，最后将部件表面吹干；S6：擦拭，用擦擦克林沾丙酮拧干，对黑色陶瓷面和Y2O3熔射面进行擦拭，再用擦擦克林沾DMF拧干，对黑色陶瓷面和侧面进行擦拭；S7：打磨，对部件背面附着的彩色物质，采用7448#百洁布打磨干净；S8：超声波清洗，放入式超声波内倒入一半的水，将部件放入，清洗2min；S9：高压水洗，采用压力值为8Mpa的水对部件正反面全面冲洗；S10：搬入无尘室再进行超声波冲洗，水准为一半，时间为2min；S11：超纯水清洗，并进行吹干，直至部件表面无残留水滴；S12：去除遮蔽，去除给电部和冷却管的遮蔽胶带；S13：擦拭，用IPA擦拭部件背面氧化铝膜面；S14：清洗后处理工序。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖北芯洁电子科技有限公司 一种E-Chuck清洗工艺
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