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申请/专利权人：长沙韶光芯材科技有限公司;湖南智信微电子科技有限公司

摘要：本发明公开了一种玻璃基片综合清洗系统，包括脱水箱、脱水盖、清洗箱和漂洗箱，所述脱水盖位于脱水箱、清洗箱和漂洗箱的上方，所述清洗箱、漂洗箱和脱水箱的内部均设置箱夹持件，所述箱夹持件上设置夹持传送带，所述脱水盖上固定设置工作台，所述工作台上设置用于夹持玻璃基片的盖夹持件，所述盖夹持件的位置与箱夹持件的位置对应，所述盖夹持件的上方设置IPA气体喷嘴，盖夹持件的两侧分别设置约束板，本发明中的玻璃基片综合清洗系统用于光掩膜版的玻璃基片的清洗，在清洗后完成慢提拉脱水，在基片两侧设置约束板形成竖向张力梯度通道，保持稳定的水回流，减少张力不稳定导致的梯度断裂，减少基片表面水痕的产生。

主权项：1.玻璃基片综合清洗系统，包括脱水箱（2）、脱水盖（3）、清洗箱（5）和漂洗箱（4），所述脱水盖（3）位于脱水箱（2）、清洗箱（5）和漂洗箱（4）的上方，脱水盖（3）与机架（1）在水平方向滑动连接，所述清洗箱（5）、漂洗箱（4）和脱水箱（2）在脱水盖（3）的移动方向上依次排列，其特征在于，所述清洗箱（5）、漂洗箱（4）和脱水箱（2）的内部均设置箱夹持件（6），所述箱夹持件（6）上设置夹持传送带（61），所述箱夹持件（6）与对应的工作箱体在竖直方向滑动连接；所述脱水盖（3）上固定设置工作台（32），所述工作台（32）上设置用于夹持玻璃基片（8）的盖夹持件（7），所述盖夹持件（7）的位置与箱夹持件（6）的位置对应；所述盖夹持件（7）的上方设置IPA气体喷嘴（10），盖夹持件（7）的两侧分别设置约束板（9），所述约束板（9）与工作台（32）在水平和竖直方向均活动连接；所述约束板（9）通过随动气缸（321）与工作台（32）在竖直方向上滑动连接，所述约束板（9）通过分离气缸（323）与工作台（32）在水平方向上滑动连接；所述工作台（32）上设置与工作台（32）在水平方向滑动连接的分离滑块（322），所述分离滑块（322）连接约束板（9），两个约束板（9）关于玻璃基片（8）对称设置，所述分离气缸（323）连接两个对称设置的约束板（9）上的分离滑块（322）；所述约束板（9）在工作时，始终保持约束板（9）的底部浸没于脱水箱（2）内部的液体中。

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