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申请/专利权人：西安奕斯伟材料科技股份有限公司
申请日：2023-04-21
公开（公告）日：2023-05-23
公开（公告）号：CN116141189A
专利技术分类：...用于单侧研磨[2012.01]
专利摘要：本公开涉及抛光台、抛光设备和抛光方法，所述抛光台包括用于供给多种抛光液的多个供液通道和被所述多个供液通道分割而形成的多个抛光区，其中，所述抛光区与所述供液通道沿所述抛光台的径向方向交替地布置，以在抛光时借助于所述抛光台旋转产生的离心力使所述多种抛光液分布在所述多个抛光区上，从而在不同的抛光区提供不同的抛光去除量。
专利权项：1.一种抛光台，其特征在于，所述抛光台包括用于供给多种抛光液的多个供液通道和被所述多个供液通道分割而形成的多个抛光区，其中，所述抛光区与所述供液通道沿所述抛光台的径向方向交替地布置，以在抛光时借助于所述抛光台旋转产生的离心力使所述多种抛光液分布在所述多个抛光区上，从而在不同的抛光区提供不同的抛光去除量。
百度查询： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 抛光台、抛光设备和抛光方法
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