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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日：2021-11-19
公开（公告）日：2023-07-21
公开（公告）号：CN116472611A
专利技术分类：...图像结构[2006.01]
专利摘要：本公开提供的探测基板及探测装置，包括衬底基板，衬底基板包括感光区、以及包围感光区的周边区；多个有机光电探测器，位于衬底基板之上；多个有机光电探测器在感光区呈阵列排布，有机光电探测器包括层叠设置的第一电极、有机光电探测功能层和第二电极，其中，全部有机光电探测器的第二电极一体化设置、并自感光区延伸至周边区；偏压线，该偏压线为在周边区沿第一方向延伸的条状走线，且偏压线在周边区内与第二电极电连接，偏压线与有机光电探测功能层在第二方向上的最小距离大于预设阈值，其中，第一方向与第二方向相互垂直，且第一方向、第二方向均平行于衬底基板。
专利权项：一种探测基板，其中，包括：衬底基板，所述衬底基板包括感光区、以及包围所述感光区的周边区；多个有机光电探测器，位于所述衬底基板之上，所述多个有机光电探测器在所述感光区呈阵列排布，所述有机光电探测器包括层叠设置的第一电极、有机光电探测功能层和第二电极，其中，全部所述有机光电探测器的所述第二电极一体化设置、并自所述感光区延伸至所述周边区；偏压线，所述偏压线为在所述周边区沿第一方向延伸的条状走线，且所述偏压线在所述周边区内与所述第二电极电连接，所述偏压线与所述有机光电探测功能层在第二方向上的最小距离大于预设阈值，其中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，且所述第一方向、所述第二方向均平行于所述衬底基板。
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 北京京东方光电科技有限公司 探测基板及探测装置
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