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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
申请日：2017-03-28
公开（公告）日：2023-08-18
公开（公告）号：CN111736436B
专利技术分类：.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）[2006.01]
专利摘要：一种方法，包括：获得使用图案化工艺处理的衬底上的量测目标的测量，该测量是使用测量辐射获得的；以及从测量导出图案化工艺的感兴趣参数，其中感兴趣参数由堆叠差异参数校正，堆叠差异参数表示目标的相邻周期性结构之间或量测目标与衬底上的另一相邻目标之间的物理配置中的非设计差异。
专利权项：1.一种用于检查的方法，包括：针对测量目标的多个相邻周期性结构或针对多个相邻测量目标，获得堆叠差异参数的第一值和堆叠差异参数的第二值，所述堆叠差异参数的第一值和所述堆叠差异参数的第二值是分别通过使用第一测量辐射和第二测量辐射的测量而获得的，并且所述堆叠差异参数表示测量目标的相邻周期性结构之间或衬底上的相邻测量目标之间的物理配置中的非设计差异；从所述测量目标的多个相邻周期性结构或针对所述多个相邻测量目标获得目标参数的第一值和目标参数的第二值，所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值是分别通过所述第一测量辐射和所述第二测量辐射而获得的，并且其中所述目标参数值包括与物理配置中的非设计差异无关的部分以及由于物理配置中的非设计差异而导致的部分；确定描述堆叠差异参数的第一值和或第二值与所述目标参数的第一值和所述目标参数的第二值的差异之间的关系的关系函数；以及从所述关系函数确定目标参数值的与物理配置中的非设计差异无关的部分。
百度查询： ASML荷兰有限公司 堆叠差异的确定和使用堆叠差异的校正
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