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申请/专利权人：北方夜视科技(南京)研究院有限公司
摘要：本发明提供一种基于微通道毛细作用调控MPC输入面扩口深度和结构的方法，在常规MCP的抛光工序后进行预腐蚀，将MCP实芯料通道腐蚀一定的深度，利用腐蚀后通道内的空气柱压力控制后续腐蚀酸溶液上升的高度发生反应，控制MCP扩口深度；当需要调控扩口深度时，可通过调控通道的深度进行调控；当需要调控扩口结构时，给予工件平面向下的压力，使酸溶液在通道上升至所需高度，再将工件向上提拉直至酸溶液在通道内的高度恢复至毛细压力平衡时的状态，从而形成具有阶梯结构的扩口。本发明的方法可扩大输入面孔径，有效增加MCP对于输入信号的探测效率；同时可以调控扩口的深度和结构，避免扩口失效的问题，且避免腐蚀溶液与整个通道反应，保证MCP的性能。
主权项：1.一种基于微通道毛细作用调控MPC输入面扩口深度和结构的方法，其特征在于，包括：在MPC的制备过程中，在工件完成抛光工序之后，腐蚀工序之前，将抛光后的工件进行预腐蚀处理，将工件中的芯料的两端腐蚀，从而在工件的两端形成用于空气流通的通道；其中，通道的深度L根据设计的第一扩口深度H1确定，第一扩口的开口形状从输入面向通道内方向呈现出上大下小的喇叭口状；将预腐蚀处理后的工件进行处理以扩大MPC的开口面积比：将预腐蚀处理后的工件的其中一端面朝下置于酸溶液中，在微通道的毛细作用下，酸溶液在通道内上升直至达到毛细压力平衡，通过酸溶液对接触区域的同向腐蚀，以及置于酸溶液的端面与通道内酸液的浓度差，扩大MPC的开口面积比，形成具有单一结构的第一扩口，所述第一扩口的深度H1为酸溶液在通道内上升至毛细压力平衡时的高度h1；其中，当需要调控第一扩口深度H1时，通过调控通道的深度以调控酸溶液在通道内上升至毛细压力平衡时的高度，从而获得所需的扩口深度；当需要调控扩口结构时，将预腐蚀处理后的工件的其中一端面朝下置于酸溶液中后，给予工件平面向下的压力，使酸溶液在通道上升至所需高度h2，再将工件向上提拉使通道中酸溶液逐渐下降，直至酸溶液在通道内的高度恢复至毛细压力平衡时的状态，从而形成具有阶梯结构的第二扩口，第二扩口的深度H2为酸溶液在通道中的高h2。
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权利要求：
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