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申请/专利权人:卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要:本发明关于用于处理光刻掩模500的多余材料590,595的方法,其中方法包含以下步骤:a扩大多余材料590,595的表面;b使用扫描探针显微镜300、400的至少一个第一探针100,150,190,212,222,232,242在光刻掩模500上位移扩大的多余材料590、595;以及c从光刻掩模500移除位移的扩大的多余材料590、595。
主权项:1.一种用于处理光刻掩模500的多余材料590,595的设备300,400,包含:至少一个探针100,150,190,212,222,232,242,所述至少一个探针配置为将所述多余材料590,595位移到该光刻掩模500的临时辅助结构950,1550,以促使从该光刻掩模500移除位移的多余材料590,595。
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权利要求:
百度查询: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 用于处理光刻掩模的多余材料的方法与设备
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