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用于分析物质的设备和方法 

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申请/专利权人:迪亚蒙泰克股份有限公司

摘要:本发明涉及用于分析物质的装置,包括:‑测量主体1,1a,其具有测量表面2并且在所述测量表面的区域中至少部分地与所述物质3接触以进行测量;激光装置4,其特别地具有量子级联激光器QCL、可调谐QCL和或激光阵列,优选QCL阵列,以产生具有不同波长的一个或多个激发束10,优选处于红外或中红外光谱范围内,所述激发束10被引导至所述物质3;以及至少部分地集成在所述测量主体1,1a中或与所述测量主体1,1a连接的检测设备5,6,7,其包括以下:用于相干检测光11的源5以及·与用于所述检测光的源可结合或与用于所述检测光的源连接并且引导所述检测光的第一光波导结构6,其折射率至少分段地取决于温度和或压力,其中所述第一光波导结构具有至少一段9,在所述段9中光强度取决于由于温度或压力的变化在所述第一光波导结构6的至少一部分中的所述检测光的相移。

主权项:1.用于分析物质的装置,具有:-测量主体,其具有测量表面2并且在用于测量的所述测量表面的区域中至少部分地与物质3联接,或者直接或通过介质与所述物质3接触,其中所述测量表面2被设计为平面表面或者包括凹陷的表面或凹陷的部分表面,-能够产生不同波长的光或激发束的激发辐射源,当所述测量主体与所述测量表面2的所述区域中的所述物质3联接和或接触时,激发束10被引导至所述物质3,用于以1Hz至10kHz的调制速率调制所述激发束10的强度的调制装置8,-至少部分地集成到所述测量主体中或与所述测量主体连接的检测装置,其包括以下:•用于检测光的源5,以及•与用于所述检测光的源可结合或与用于所述检测光的源连接并且引导所述检测光的第一光波导结构6,其折射率至少分段地取决于温度和或压力,其中所述第一光波导结构具有至少一段9,在所述至少一段9中光强度取决于由于因当所述测量主体在所述测量表面的区域中与所述物质3联接时由所述激发束的吸收引起的压力波或热波导致的温度或压力的变化在所述光波导结构6的至少一部分中的检测光的相移,以及用于直接或间接检测所述第一光波导结构6的所述段9中的光强度的测量装置7,其中所述光强度取决于由于温度或压力的变化在所述第一光波导结构的所述至少一部分中的所述检测光的相移,其中所述测量主体包含衬底1a,并且其中所述第一光波导结构6的至少一个光波导被集成在所述衬底1a中。

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权利要求:

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