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申请/专利权人：细美事有限公司
摘要：本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：离子阻断器，该离子阻断器将内部空间分为底侧处的第一空间和顶侧处的第二空间；支承单元，该支承单元配置为在第一空间支承基板；以及等离子体源，该等离子体源在内部空间产生等离子体，以及其中，在离子阻断器处形成多个通道，用于将流体从第二空间流动至第一空间，以及离子阻断器由介电物质制成，以及包括在等离子体中的离子和基团中的离子在穿过通道时被捕获。
主权项：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：腔室，所述腔室具有内部空间；离子阻断器，所述离子阻断器将所述内部空间分为底侧处的第一空间和顶侧处的第二空间；支承单元，所述支承单元配置为在所述第一空间支承基板；以及等离子体源，所述等离子体源在所述内部空间产生等离子体，以及其中，在所述离子阻断器处形成多个通道，用于将流体从所述第二空间流动至所述第一空间，以及所述离子阻断器由介电物质制成，以及包括在所述等离子体中的离子和基团中的离子在穿过所述通道时被捕获。
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