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申请/专利权人:江苏鲁汶仪器股份有限公司
摘要:本发明公开一种离子刻蚀装置及其颗粒收集方法,其中,该离子刻蚀装置,包括:壳体,所述壳体包括主壳部和连通管,所述主壳部内形成有主腔室,所述连通管形成有连通通道,所述连通通道和所述主腔室相连通;吹扫单元,所述吹扫单元设置在所述主腔室内,所述吹扫单元包括喷气孔,所述喷气孔能够朝向所述主壳部的内壁面喷气;颗粒收集单元,所述颗粒收集单元安装于所述壳体,并至少部分位于所述连通通道内。上述离子刻蚀装置可以对主腔室内的颗粒进行吹扫和收集,能够减少主腔室内的颗粒物的含量,进而可以避免对于离子刻蚀工艺参数的影响以及产品良率的影响。
主权项:1.一种离子刻蚀装置,其特征在于,包括:壳体1,所述壳体1包括主壳部11和连通管12,所述主壳部11内形成有主腔室11a,所述连通管12形成有连通通道12a,所述连通通道12a和所述主腔室11a相连通;吹扫单元2,所述吹扫单元2设置在所述主腔室11a内,所述吹扫单元2包括喷气孔212b-1,所述喷气孔212b-1能够朝向所述主壳部11的内壁面喷气;颗粒收集单元3,所述颗粒收集单元3安装于所述壳体1,并至少部分位于所述连通通道12a内。
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