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放射线照射系统 

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申请/专利权人:住友重机械工业株式会社

摘要:本发明提供一种放射线照射系统,容易识别被照射体的定位用光源的偏移。根据中子捕捉疗法系统1,具备能够沿一个假想的轴线AX上将投影光LZ投影到板PT对象物的表面的至少三个光源60。此时,在任一个光源60中产生偏移的情况下,该光源60的投影光LZ从轴线AX偏移。通过确认该偏移,能够容易确认已偏移的光源60。由此,能够使用除了已偏移的光源60以外的投影光LZ来进行患者Q的定位。如上所述,容易识别患者Q的定位用光源60的偏移。

主权项:1.一种放射线照射系统,其对被照射体照射放射线,其中,所述放射线照射系统具备至少三个光源,所述光源能够沿一个假想的轴线上将投影光投影到对象物的表面。

全文数据:

权利要求:

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