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申请/专利权人：哈尔滨工业大学
摘要：一种MIL‑100Fe插层g‑C3N4复合膜的制备方法及应用。本发明涉及超滤膜制备技术领域，解决了现有g‑C3N4膜结构稳定不足、渗透通量低、截留性能差及膜污染严重等问题。方法：一、块状g‑C3N4制备；二、g‑C3N4纳米片制备；三、MIL‑100Fe纳米颗粒制备；四、MIL‑100Fe插层g‑C3N4复合膜制备。应用：MIL‑100Fe插层g‑C3N4复合膜与氧化剂结合过滤含有机污染物的水体。本发明的膜适用于水中各类有机污染物的去除。
主权项：1.一种MIL-100Fe插层g-C3N4复合膜的制备方法，其特征在于MIL-100Fe插层g-C3N4复合膜的制备方法具体是按以下步骤进行：一、块状g-C3N4制备：将有机含氮化合物于马弗炉中高温煅烧，得到块状g-C3N4；二、g-C3N4纳米片制备：将块状g-C3N4转移到浓硫酸中缓慢搅拌，将所得混合物用去离子水稀释并超声处理，得到淡黄色分散液；将淡黄色分散液进行两次离心提纯，干燥后得到g-C3N4纳米片；三、MIL-100Fe纳米颗粒制备：将九水合硝酸铁、1,3,5-苯三甲酸、硝酸和去离子水混合并搅拌均匀后，进行水热反应，反应完成后自然冷却至室温，先采用热水分散后离心收集沉淀，再采用热乙醇分散并干燥，得到MIL-100Fe纳米颗粒；四、MIL-100Fe插层g-C3N4复合膜制备：将MIL-100Fe纳米颗粒和g-C3N4纳米片通过超声分散到去离子水中，然后真空过滤到微孔聚醚砜上，将获得的MIL-100Fe插层g-C3N4复合膜进行热固定，即完成MIL-100Fe插层g-C3N4复合膜的制备。
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百度查询： 哈尔滨工业大学 一种MIL-100(Fe)插层g-C3N4复合膜的制备方法及应用
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