买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:天合光能股份有限公司
摘要:本发明提供一种清洗方法,包括步骤:判断拉制单晶后具有氧化缺陷的缺陷籽晶是否满足再利用条件;第一清洗,采用碱性溶液或酸性溶液作为清洗溶液对满足再利用条件的缺陷籽晶进行清洗;第二清洗,采用酸性溶液或碱性溶液作为清洗溶液对第一清洗之后的缺陷籽晶进行清洗,且第二清洗采用的清洗溶液与第一清洗采用的清洗溶液不同。本发明提供的清洗方法,能够提高单晶制备的生产效率,并能够降低单晶制备的生产成本。
主权项:1.一种清洗方法,其特征在于,包括步骤:判断拉制单晶后具有氧化缺陷的缺陷籽晶是否满足再利用条件;第一清洗,采用碱性溶液或酸性溶液作为清洗溶液对满足再利用条件的所述缺陷籽晶进行清洗;第二清洗,采用酸性溶液或碱性溶液作为清洗溶液对所述第一清洗之后的所述缺陷籽晶进行清洗,且所述第二清洗采用的清洗溶液与所述第一清洗采用的清洗溶液不同。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 天合光能股份有限公司 清洗方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。