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半导体工艺用抛光组合物及基板的抛光方法 

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申请/专利权人:SK恩普士有限公司

摘要:提出半导体工艺用组合物、基板的抛光方法等。本实施方式的半导体工艺用组合物包括磨料颗粒、水及杀生物剂,上述杀生物剂包括第一杀生物剂和第二杀生物剂,上述第一杀生物剂包含噻唑啉酮类化合物,上述第二杀生物剂包含氯酸类化合物。即使适用微量的杀生物剂,也对各种微生物有抑制作用,并能够提高分散稳定性。尤其,当适用于钨和氧化硅膜的抛光时有效。

主权项:1.一种半导体工艺用组合物,其特征在于,包括磨料颗粒、水及杀生物剂,上述杀生物剂包括第一杀生物剂和第二杀生物剂,上述第一杀生物剂包含噻唑啉酮类化合物,上述第二杀生物剂包含氯酸类化合物。

全文数据:

权利要求:

百度查询: SK恩普士有限公司 半导体工艺用抛光组合物及基板的抛光方法

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