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申请/专利权人：江苏元夫半导体科技有限公司
摘要：本实用新型公开了一种晶圆抛光设备，包括前端模块、抛光模块、晶圆传输模块和清洗模块，清洗模块设置于前端模块和抛光模块之间，抛光模块包括：第一抛光单元和第二抛光单元，第一抛光单元沿上下方向层叠在第二抛光单元的下方，第一抛光单元和第二抛光单元均用于对晶圆抛光作业。根据本实用新型实施例的晶圆抛光设备，抛光模块包括第一抛光单元和第二抛光单元，第一抛光单元和第二抛光单元可以同时对晶圆进行抛光作业，以使得抛光模块可以同时对两个晶圆进行抛光作业，可以提高抛光模块的工作效率，进而可以提高晶圆抛光设备的工作效率；第一抛光单元和第二抛光单元上下叠置，提高了抛光模块在上下方向上的空间利用率。
主权项：1.一种晶圆抛光设备，其特征在于，包括：前端模块、抛光模块和清洗模块，所述清洗模块设置于所述前端模块和所述抛光模块之间，所述抛光模块包括：第一抛光单元和第二抛光单元，所述第一抛光单元沿上下方向层叠在所述第二抛光单元的下方，所述第一抛光单元和所述第二抛光单元均用于对晶圆抛光作业。
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百度查询： 江苏元夫半导体科技有限公司 晶圆抛光设备
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