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申请/专利权人：深圳市兰光光学科技有限公司;南方工业技术研究院(深圳)
摘要：本实用新型涉及抛光设备技术领域，具体是涉及一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模，包括大理石基底以及位于大理石基底上表面均匀设置的沥青层，所述沥青层的上表面均匀设置有玻璃板，所述玻璃板背离沥青层的表面上铺设有阻尼布层，抛光模使用时通过阻尼布层与镜片基片表面接触并对基片抛光；本技术方案是利用了沥青的弹性变化特性，使得阻尼布层表面能够具备一定的柔性与快速的回复度，减少抛光模抛光过程中脱落的颗粒对基片表面的损伤，提升基片面形精度。
主权项：1.一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模，其特征在于：包括大理石基底4以及位于大理石基底4上表面均匀设置的沥青层3，所述沥青层3的上表面均匀设置有玻璃板2，所述玻璃板2背离沥青层3的表面上铺设有阻尼布层1，抛光模使用时通过阻尼布层1与镜片基片表面接触并对基片抛光。
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百度查询： 深圳市兰光光学科技有限公司 南方工业技术研究院(深圳) 一种用于石英高损伤阈值基片抛光用的复合抛光模
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