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申请/专利权人：哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)
摘要：本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，特别涉及一种孔洞结构内壁均匀溅射镀膜的磁控溅射支具及方法。磁控溅射支具包括安装底座、调节支架、连接支架、用于夹持复杂结构工件样品的夹具组件；安装底座与磁控溅射设备的旋转电机连接并配合旋转，调节支架固定连接在安装底座上，连接支架与调节支架活动连接，夹具组件固定连接在连接支架上，通过调整连接支架和调节支架之间的夹角以调整样品的溅射角度。磁控溅射支具通过调节样品夹具倾斜角度调节样品溅射角度，达到孔内溅射沉积的目的；通过配合磁控溅射设备的旋转电机进行自转，使镀膜更加稳定；使用该磁控溅射支具的工艺方法保证磁控溅射镀膜的膜厚均匀性，提高薄膜的整体服役寿命。
主权项：1.一种孔洞结构内壁均匀溅射镀膜的磁控溅射支具，其特征在于，包括安装底座、调节支架、连接支架、用于夹持复杂结构工件样品的夹具组件；所述安装底座与磁控溅射设备的旋转电机连接并配合旋转，所述调节支架固定连接在安装底座上，所述连接支架与调节支架活动连接，所述夹具组件固定连接在连接支架上，通过调整所述连接支架和调节支架之间的夹角以调整样品的溅射角度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院) 一种孔洞结构内壁均匀溅射镀膜的磁控溅射支具及方法
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