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申请/专利权人：株式会社斯库林集团
摘要：本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置100具备基板处理单元10、电解部310、超氧水储液箱320和富氢水储液箱330。基板处理单元10具有向基板W供给清洗液的喷嘴44、54。电解部310将纯水电解而生成作为清洗液的超氧水及富氢水。超氧水储液箱320收容超氧水。富氢水储液箱330收容富氢水。喷嘴44、54将来自超氧水储液箱320的超氧水、以及来自富氢水储液箱330的富氢水供给到基板W。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：基板处理单元，其具有向基板供给清洗液的喷嘴；电解部，其将纯水电解而生成作为所述清洗液的超氧水及富氢水；超氧水储液箱，其收容所述超氧水；和富氢水储液箱，其收容所述富氢水，所述喷嘴将来自所述超氧水储液箱的所述超氧水、以及来自所述富氢水储液箱的所述富氢水供给到所述基板。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社斯库林集团 基板处理装置及基板处理方法
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