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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：对具有凹部的基板实施气体处理的气体处理方法包括以下处理：将具有凹部的基板配置于腔室内；向被抽真空后的腔室内供给压力调整用气体来使腔室内的压力上升以调压至预先规定的压力；以及接着，使腔室内产生基于处理气体的处理反应来对基板的凹部的侧壁进行气体处理，其中，将用于产生处理反应的处理气体用作实施调压时的压力调整气体的至少一部分。
主权项：1.一种气体处理方法，用于对具有凹部的基板实施气体处理，所述气体处理方法包括以下处理：将具有凹部的基板配置于腔室内；向被抽真空后的所述腔室内供给压力调整用气体来使所述腔室内的压力上升以调压至预先规定的压力；以及接着，使所述腔室内产生基于处理气体的处理反应来对所述基板的所述凹部的侧壁进行气体处理，其中，将用于产生所述处理反应的所述处理气体用作实施所述调压时的所述压力调整用气体的至少一部分。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 气体处理方法和气体处理装置
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