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申请/专利权人：深圳子柒科技有限公司
摘要：本发明属于等离子表面处理技术，尤其涉及一种真空等离子体处理装置及其控制方法，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件；所述真空室设置有密封门，密封门朝向真空室的一侧设置有密封条，真空室内设置有放置架以及等离子体发生组件，所述等离子体发生组件用于使通入的选定气体形成等离子体，所述等离子体发生组件包括电离组件以及供气组件；所述真空室的背面设置有真空组件，所述真空组件用于使真空室内形成真空环境；所述控制组件用于所述等离子体发生组件以及所述真空组件的工作控制。本发明设置密封门及真空组件可以得到稳定的真空环境，由电离组件及供气组件产生的配合产生等离子体对产品进行表面处理。
主权项：1.一种真空等离子体处理装置，其特征在于，所述真空等离子体处理装置包括机架，设置于机架上的真空室以及控制组件；所述真空室设置有密封门，密封门朝向真空室的一侧设置有密封条，真空室内设置有放置架以及等离子体发生组件，所述等离子体发生组件用于使通入的选定气体形成等离子体，所述等离子体发生组件包括电离组件以及供气组件；所述真空室的背面设置有真空组件，所述真空组件用于使真空室内形成真空环境；所述控制组件用于所述等离子体发生组件以及所述真空组件的工作控制。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳子柒科技有限公司 一种真空等离子体处理装置及其控制方法
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