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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学
摘要：例示的实施方式的等离子体处理装置包括处理容器、工作台、上部电极、导入部和波导部。工作台设置于处理容器内。上部电极隔着处理容器内的空间设置于工作台的上方。导入部是高频的导入部。高频是VHF波或者UHF波。导入部设置于空间的横向端部，绕着处理容器的中心轴线在周向上延伸。波导部构成为能够对导入部供给高频。波导部包含提供波导路径的谐振器。谐振器的波导路径绕着中心轴线在周向上延长且在中心轴线延伸的方向上延长而与导入部连接。
主权项：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：处理容器；设置于所述处理容器内的工作台；隔着所述处理容器内的空间设置于所述工作台的上方的上部电极；VHF波或UHF波的高频的导入部，其设置于所述空间的横向端部，绕所述处理容器的中心轴线在周向上延伸；和构成为能够对所述导入部供给所述高频的波导部，所述波导部包含提供波导路径的谐振器，所述谐振器的所述波导路径绕着所述中心轴线在所述周向上延长且在所述中心轴线延伸的方向上延长而与所述导入部连接，所述波导路径在所述中心轴线延伸的所述方向上折返。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 国立大学法人东北大学 等离子体处理装置和等离子体处理方法
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