买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:HOYA株式会社
摘要:提供一种磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质和磁记录再生装置用玻璃间隔物。一种磁记录介质基板用玻璃,其为具有特定组成的非晶态的氧化物玻璃,该非晶态的氧化物玻璃的玻璃化转变温度为625℃以上、杨氏模量为83GPa以上、比重为2.85以下、且100~300℃的平均线性膨胀系数为48×10‑7℃以上。
主权项:1.一种由磁记录介质基板用玻璃形成的磁记录介质基板,所述磁记录介质基板用玻璃为非晶态的氧化物玻璃,在该非晶态的氧化物玻璃中,以摩尔%表示,SiO2的含量为52%~68%、Al2O3的含量为12%~18%、SiO2与Al2O3的总含量SiO2+Al2O3为80%以下、B2O3的含量为0~5%、MgO的含量为3%~28%、不含CaO、TiO2的含量为0~5%、不含ZrO2、BaO和SrO的总含量BaO+SrO为0~2%、碱土金属氧化物的总含量MgO+CaO+SrO+BaO为12%~30%、相对于碱土金属氧化物的总含量,MgO和CaO的总含量的摩尔比MgO+CaOMgO+CaO+SrO+BaO为0.75~1.00、碱金属氧化物的总含量Li2O+Na2O+K2O为3.5%~13%,相对于碱金属氧化物的总含量,Li2O含量的摩尔比Li2OLi2O+Na2O+K2O为0.4~1、Li2O的含量为8摩尔%以下、不含Na2O、K2O的含量为5摩尔%以下、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3和Y2O3的总含量HfO2+Nb2O5+Ta2O5+La2O3+Y2O3为0~5%、ZnO的含量为0~3%、P2O5的含量为0~2%,包含选自由Sn氧化物和Ce氧化物组成的组中的至少一种,Sn氧化物和Ce氧化物的总含量为0.05%~2.00%,该非晶态的氧化物玻璃的玻璃化转变温度为650℃以上、杨氏模量为90GPa以上、比重为2.85以下、且100℃~300℃的平均线性膨胀系数为48×10-7℃以上。
全文数据:
权利要求:
百度查询: HOYA株式会社 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质和磁记录再生装置用玻璃间隔物
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。