龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：HOYA株式会社
摘要：提供一种磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质和磁记录再生装置用玻璃间隔物。一种磁记录介质基板用玻璃，其为具有特定组成的非晶态的氧化物玻璃，该非晶态的氧化物玻璃的玻璃化转变温度为625℃以上、杨氏模量为83GPa以上、比重为2.85以下、且100～300℃的平均线性膨胀系数为48×10‑7℃以上。
主权项：1.一种由磁记录介质基板用玻璃形成的磁记录介质基板，所述磁记录介质基板用玻璃为非晶态的氧化物玻璃，在该非晶态的氧化物玻璃中，以摩尔％表示，SiO2的含量为52％～68％、Al2O3的含量为12％～18％、SiO2与Al2O3的总含量SiO2+Al2O3为80％以下、B2O3的含量为0～5％、MgO的含量为3％～28％、不含CaO、TiO2的含量为0～5％、不含ZrO2、BaO和SrO的总含量BaO+SrO为0～2％、碱土金属氧化物的总含量MgO+CaO+SrO+BaO为12％～30％、相对于碱土金属氧化物的总含量，MgO和CaO的总含量的摩尔比MgO+CaOMgO+CaO+SrO+BaO为0.75～1.00、碱金属氧化物的总含量Li2O+Na2O+K2O为3.5％～13％，相对于碱金属氧化物的总含量，Li2O含量的摩尔比Li2OLi2O+Na2O+K2O为0.4～1、Li2O的含量为8摩尔％以下、不含Na2O、K2O的含量为5摩尔％以下、HfO2、Nb2O5、Ta2O5、La2O3和Y2O3的总含量HfO2+Nb2O5+Ta2O5+La2O3+Y2O3为0～5％、ZnO的含量为0～3％、P2O5的含量为0～2％，包含选自由Sn氧化物和Ce氧化物组成的组中的至少一种，Sn氧化物和Ce氧化物的总含量为0.05％～2.00％，该非晶态的氧化物玻璃的玻璃化转变温度为650℃以上、杨氏模量为90GPa以上、比重为2.85以下、且100℃～300℃的平均线性膨胀系数为48×10-7℃以上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： HOYA株式会社 磁记录介质基板用玻璃、磁记录介质基板、磁记录介质和磁记录再生装置用玻璃间隔物
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号