龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：布鲁尔科技公司
摘要：提供了用作EUV粘附层的新型光刻组合物。本发明提供了使用那些组合物制造微电子结构的方法以及由那些方法所形成的结构。方法涉及在紧邻光刻胶层下方使用粘附层。粘附层可以直接施加于基材，或者也可以施加于可能施加到基材的中间层，例如α‑碳、旋涂碳、旋涂硅硬掩模、金属硬掩模、或沉积的硅层。优选的粘附层由可旋涂的聚合组合物形成。本发明的方法改善粘附性并降低或消除图案崩塌的问题。
主权项：1.一种形成结构的方法，所述方法包括：提供基材，所述基材包括其上的一个或多个中间层；所述一个或多个中间层包含：旋涂碳层；硬掩膜层，其包含硅烷、硅氧烷、硅倍半氧烷、硅氧氮化物、多晶硅或无定形硅中的一种或多种；或所述旋涂碳层和在所述旋涂碳层上的所述硬掩膜层；在所述旋涂碳层上或所述硬掩膜层上旋涂组合物,所述组合物包含：聚合物，其包含选自下组的重复单体：乙烯类单体，选自：丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、及其组合；丙烯酸类单体，选自：丙烯酸-2-羟基-3-苯氧基丙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸-2-羟乙酯、甲基丙烯酸叔丁酯、及其组合；苯乙烯类单体；以及其组合；烘烤所述组合物以形成粘附层，其具有大于单层但是小于9nm的平均厚度以及基于粘附层的总重量为100重量％时小于0.001重量％的金属含量；在所述粘附层上形成光刻胶层；以及对所述光刻胶层的至少一部分实施EUV辐射。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 布鲁尔科技公司 用于EUV光刻的粘附层
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号