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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种用于在极紫外光源中执行目标量测的系统和方法，其中用于目标成像检测系统的照射被选择为具有小于400nm的中心波长。在一些实施例中，该照射被附加地选择为具有至少4nm的线宽。在一些实施例中，照射被获得作为钛:蓝宝石激光器的二次谐波或Nd:YAG激光器的谐波。
主权项：1.一种用于极紫外光源的目标量测系统，所述目标量测系统包括：光源，所述光源被布置为发射中心波长小于400nm的照射激光辐射，并用所述照射激光辐射照射目标材料供应路径的一部分；和辐射接收器，所述辐射接收器被布置为在所述照射激光辐射已经照射所述目标材料供应路径的所述部分之后，接收所述照射激光辐射。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 EUV光源目标量测
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