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申请/专利权人：东莞思沃智能装备有限公司
摘要：本发明涉及曝光设备技术领域，公开了一种接近式曝光系统的Z轴结构及接近式曝光设备，包括：支撑板；掩模安装面板，与支撑板滑动连接；升降驱动组件，包括与支撑板固定连接的音圈电机、连接音圈电机的驱动端的斜推板和用于将掩模安装面板拉向斜推板的弹性件；斜推板具有朝向掩模安装面板的第一斜面，掩模安装面板具有平行第一斜面的第二斜面，斜推板的顶面通过第一滑轨组件与支撑板滑动连接，斜推板的第一斜面通过第二滑轨组件与第二斜面滑动连接，且第二滑轨组件相对第一滑轨组件倾斜设置。本发明的一种接近式曝光系统的Z轴结构及接近式曝光设备，能更精准调节掩模和电池片之间的距离，更好地达到批量化生产且不损伤掩模的目的。
主权项：1.一种接近式曝光系统的Z轴结构，其特征在于，包括：支撑板（1）；掩模安装面板（2），用于安装掩模，在沿竖直方向上与所述支撑板（1）滑动连接；升降驱动组件（3），包括与所述支撑板（1）固定连接的音圈电机（31）、连接所述音圈电机（31）的驱动端的斜推板（32）和用于将所述掩模安装面板（2）拉向所述斜推板（32）的弹性件（33）；所述斜推板（32）具有朝向所述掩模安装面板（2）的第一斜面，所述掩模安装面板（2）具有平行所述第一斜面的第二斜面，所述斜推板（32）的顶面通过第一滑轨组件（4）与所述支撑板（1）滑动连接，所述斜推板（32）的第一斜面通过第二滑轨组件（5）与所述第二斜面滑动连接，且所述第二滑轨组件（5）相对所述第一滑轨组件（4）倾斜设置；所述音圈电机（31）带动所述斜推板（32）水平移动，以使所述掩模安装面板（2）沿竖直方向移动。
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