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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：基板保持部，其以使基板的形成有凹凸图案的面朝上的方式保持基板；液供给单元，其通过从被基板保持部保持的基板的上方对该基板供给处理液来形成覆盖凹凸图案的凹部的液膜；加热单元，其具有对液膜局部地进行加热的加热部和使由加热部加热的加热位置移动的加热位置移动部；以及加热控制部，其控制加热单元，其中，加热控制部一边使加热位置在铅垂方向上观察时与位于露出部与覆盖部之间的边界部重叠，一边使加热位置向使露出部扩大的方向即边界部的移动方向移动，该露出部是凹部的深度方向上的整体从处理液露出的部分，该覆盖部是凹部的深度方向上的整体被处理液填满的部分。
主权项：1.一种基板处理装置，具备：基板保持部，其以使基板的形成有凹凸图案的面朝上的方式保持所述基板；液供给单元，其通过从被所述基板保持部保持的所述基板的上方对所述基板供给处理液来形成覆盖所述凹凸图案的凹部的液膜；加热单元，其具有对所述液膜局部地进行加热的加热部和使由所述加热部加热的加热位置移动的加热位置移动部；以及加热控制部，其控制所述加热单元，其中，所述加热控制部一边使所述加热位置在铅垂方向上观察时与位于露出部与覆盖部之间的边界部重叠，一边使所述加热位置向使所述露出部扩大的方向即所述边界部的移动方向移动，所述露出部是所述凹部的深度方向上的整体从所述处理液露出的部分，所述覆盖部是所述凹部的深度方向上的整体被所述处理液填满的部分，所述基板处理装置还具备：旋转驱动部，其使所述基板保持部旋转；以及旋转控制部，其控制所述旋转驱动部，其中，在所述旋转控制部使所述基板与所述基板保持部一同旋转的同时，所述加热控制部使所述加热位置从所述基板的径向内侧向所述基板的径向外侧移动。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置和基板处理方法
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