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一种电容法测试超低阻红磷硅片电阻率的方法 

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申请/专利权人:山东有研半导体材料有限公司;有研半导体硅材料股份公司

摘要:本发明公开了一种电容法测试超低阻红磷硅片电阻率的方法。该包括以下步骤:1使用四探针设备标定电阻率校准样片,需要标定两片电阻率校准样片;2将标定的电阻率校准样片的电阻率值×2,输入到电容法测试电阻率设备的校准界面,根据设备提示完成电阻率校准工作;3根据待测片的厚度,完成电容法测试电阻率设备的厚度校准;4根据设备的标准化操作,完成正常测试;5在测试完成后,将电阻率值2作为最终测试数据。采用本发明的方法,能够解决小于0.001Ω·cm的重掺红磷硅片的测试,可以通过电容法测试获得电阻率具体值,设备测试重复性可达到1%,准确度对标四探针法同样可达到小于1%。

主权项:1.一种电容法测试超低阻红磷硅片电阻率的方法,其特征在于,包括以下步骤:1使用四探针设备标定电阻率校准样片,需要标定两片电阻率校准样片;2将标定的电阻率校准样片的电阻率值×2,输入到电容法测试电阻率设备的校准界面,根据设备提示完成电阻率校准工作;3根据待测片的厚度,完成电容法测试电阻率设备的厚度校准;4根据设备的标准化操作,完成正常测试;5在测试完成后,将电阻率值2作为最终测试数据。

全文数据:

权利要求:

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