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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：一种半导体处理系统可包括被配置为在半导体晶片上执行配方的半导体处理腔室。所述系统可包括第一等离子体源，所述第一等离子体源向半导体处理腔室提供等离子体并且在配方的执行期间进行工作循环。所述系统也可包括第二等离子体源，所述第二等离子体源被配置为在第一等离子体源进行工作循环的同时维持半导体处理腔室中的等离子体。
主权项：1.一种向半导体处理腔室提供等离子体的方法，所述方法包括：根据配方在所述半导体处理腔室中处理半导体晶片；根据所述配方操作第一等离子体源，其中所述第一等离子体源向所述半导体处理腔室提供等离子体且被配置为在所述配方的执行期间进行工作循环；以及操作第二等离子体源，其中所述第二等离子体源被配置为处于开启ON状态，而所述第一等离子体源进行工作循环。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于在等离子体腔室中稳健点燃和再触发的辅助等离子体源
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