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申请/专利权人：极电光能有限公司
摘要：本实用新型公开了一种激光刻划设备，激光刻划设备包括：放料盘和收料盘；吸附装置，吸附装置设于放料盘和收料盘之间且具有吸附平面，吸附平面具有多个吸附口；激光刻划装置，激光刻划装置设于吸附装置上方，激光刻划装置适于向基材发射激光光束，其中，吸附装置包括排风机构和吸附罩，吸附罩设于排风机构上且限定有负压腔和排风腔，负压腔与吸附口连通，排风腔位于负压腔的外侧且通过连通口连通，排风腔与排风机构的出风口位置对应且相互连通，排风腔包含有与出风口相连通的进风口，吸附罩还具有与排风腔连通的排风口。根据本实用新型实施例的激光刻划设备，通过设置吸附罩，可以减小基材的变形程度，提高对基材的刻线效果。
主权项：1.一种激光刻划设备，其特征在于，包括：放料盘和收料盘，所述放料盘用于基材的放料，所述收料盘用于基材的收料；吸附装置，所述吸附装置设于所述放料盘和所述收料盘之间且所述吸附装置具有用于吸附所述基材的吸附平面，所述吸附平面具有多个吸附口；激光刻划装置，所述激光刻划装置设于所述吸附装置上方，所述激光刻划装置适于向所述基材发射激光光束；其中，所述吸附装置包括排风机构和吸附罩，所述吸附罩设于所述排风机构上且限定有负压腔和排风腔，所述负压腔与所述吸附口连通，所述排风腔位于所述负压腔的外侧且通过连通口连通，所述排风腔与所述排风机构的出风口位置对应且相互连通，所述排风腔包含有与所述出风口相连通的进风口，所述吸附罩还具有与所述排风腔连通的排风口，所述排风机构向所述排风腔中引入由所述进风口至所述排风口的排风气流，所述排风气流掠过连通口能使得负压腔形成负压。
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