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申请/专利权人：华中科技大学
摘要：本发明属于半导体光刻相关技术领域，并公开了一种基于振幅全息掩模的光刻系统及方法。该光刻系统包括光源、准直器、第一分束器、空间光调制器、振幅全息掩模和会聚透镜，其中，准直器将光源发出的光线准直，第一分束器接受从准直器出射的光线，从该第一分束器透射的光线到达空间光调制器，该空间光调制器用于对光线的波相差进行补偿以获得波前平整的出射光场，振幅全息掩模用于对光线进行振幅调制，从空间光调制器出射的光线被第一分束器反射进入振幅全息掩模，经该振幅全息掩模调制后进入会聚透镜，待加工样品表面涂覆有光刻胶，会聚透镜将光线聚焦在待加工样品上形成图案。通过本发明，提供一种新的低成本、低复杂度的光刻技术。
主权项：1.一种基于振幅全息掩模的光刻系统，其特征在于，该光刻系统包括光源1、准直器2、第一分束器6、空间光调制器7、振幅全息掩模8和会聚透镜10，其中，所述准直器2将所述光源1发出的光线准直，所述第一分束器6接受从所述准直器2出射的光线，从该第一分束器6透射的光线到达所述空间光调制器7，该空间光调制器7用于对光线的波相差进行补偿以获得波前平整的出射光场，经所述空间光调制器7补偿的光线进入所述分束器6中被反射，反射的光线进入所述振幅全息掩模8中，该振幅全息掩模8用于对光线进行振幅调制，经该振幅全息掩模8调制后进入所述会聚透镜10，所述会聚透镜10将光线聚焦在待加工样品11表面形成图案，以此实现光场进行相位-振幅调控后的成像。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华中科技大学 一种基于振幅全息掩模的光刻系统及方法
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