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申请/专利权人：株式会社理学
摘要：本发明提供一种荧光X射线分析装置，其通过使薄板状样品的背面的状态为一样，不会产生因测定位置所致的测定条件的差异。一种荧光X射线分析装置具备：X射线源，其用1次X射线照射板状的样品的表面；探测器，其测定荧光X射线的强度；样品台，其载置样品；分析部，其在样品的表面的多个测定位置进行分析；背景校正盖，其具有沿样品台的外缘的一部分形状的外缘部分，与样品台的外侧相邻，并且表面配置在与样品台的表面大致同一平面上；移动机构，其使样品台移动，以便1次X射线照射到样品的表面的任意测定位置，其中，移动机构使背景校正盖随着样品台的移动而移动，当测定位置的样品背面无样品台时，使背景校正盖移动至测定位置的样品背面。
主权项：1.一种荧光X射线分析装置，其特征在于，具备：X射线源，其用1次X射线照射板状的样品的表面；探测器，其测定从所述1次X射线照射的所述样品产生的荧光X射线的强度；样品台，其载置所述样品；分析部，其基于所述探测器在所述样品的表面的多个测定位置测定出的荧光X射线的强度而进行分析；至少一个背景校正盖，其具有沿所述样品台的外缘的一部分的形状的外缘部分，与所述样品台的外侧相邻，并且表面配置在与所述样品台的表面大致同一平面上；以及移动机构，其使所述样品台移动，以使所述1次X射线照射到所述样品的表面的任意测定位置，所述移动机构使所述背景校正盖随着所述样品台的移动而移动，当测定位置的所述样品的背面无所述样品台时，使所述背景校正盖移动至该测定位置的所述样品的背面。
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