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申请/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
摘要：一种版图处理方法及系统、设备和存储介质，版图处理方法包括：获取待处理版图层，待处理版图层包括多个版图图形；在版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组，预设条件包括：两个相邻设置的版图图形的面积不同，至少其中一者满足曝光最小面积要求，且两者的关键尺寸方向相同，图形组中面积更大的版图图形作为第一图形，另一者作为第二图形；对图形组进行图形处理，以使图形处理后的第一图形和第二图形均满足曝光最小面积要求，图形处理包括：沿非关键尺寸方向，对第一图形进行图形收缩处理、以及对第二图形进行图形扩张处理。本发明在增大第二图形的光刻工艺窗口的目的的同时，使得芯片性能得到保障。
主权项：1.一种版图处理方法，其特征在于，包括：获取待处理版图层，所述待处理版图层包括多个版图图形；在所述版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组，所述预设条件包括：两个相邻设置的版图图形的面积不同，至少其中一者满足曝光最小面积要求，且两者的关键尺寸方向相同；其中，在所述图形组中，面积更大的版图图形作为第一图形，另一者作为第二图形；对所述图形组进行图形处理，以使图形处理后的第一图形和第二图形均满足曝光最小面积要求，所述图形处理包括：沿非关键尺寸方向，对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 版图处理方法及系统、设备和存储介质
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