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申请/专利权人：浙江大学

申请日：2023-08-16

公开（公告）日：2024-08-27

公开（公告）号：CN117111350B

专利技术分类：....构造上的设备（G02F1/135，G02F1/136优先）[2006.01]

专利摘要：本发明涉及一种光调控屏幕、光调控系统及光调控方法，光调控屏幕包括第一导电结构、第二导电结构、光响应结构和双稳态显示结构，光响应结构位于第一导电结构与第二导电结构之间，双稳态显示结构位于第一导电结构与第二导电结构之间并位于光响应结构的一侧或内部。其优点在于，系统功耗低；利用光响应结构的电学性质进行显色和擦除，不存在区域额外信号处理流程，响应极快；除被光照射的区域外，光响应结构的其他区域依旧起绝缘作用，仅在光照射的区域导通，实现导通部位的局部擦除；与传统的电阻压力式等相比，无须复杂的电路设计和额外的传感结构，有利于制作大尺寸屏幕和大范围推广。

专利权项：1.一种光调控屏幕，其特征在于，包括：第一导电结构；第二导电结构，所述第二导电结构与所述第一导电结构相对设置；光响应结构，所述光响应结构设置于所述第一导电结构与所述第二导电结构之间，用于在无光照射的情况下呈不导通状态以及在光照射的情况下呈导通状态，其中，光的波长为200nm~2000nm；双稳态显示结构，所述双稳态显示结构设置于所述第一导电结构与所述第二导电结构之间，并位于所述光响应结构的一侧或内部，用于在电压调控以及在所述光响应结构呈导通状态的作用下呈局部擦除状态；其中，所述第一导电结构包括：第一基层，其中，所述第一基层的厚度为100um~1cm，所述第一基层为浅色材料，所述第一基层的透光率为15%~90%，或者，所述第一基层为深色材料，所述第一基层的透光率为0%~80%；第一导电层，所述第一导电层设置于所述第一基层靠近所述第二导电结构的一侧，其中，所述第一导电层的厚度为2nm~100um；其中，所述第二导电结构包括：第二基层，其中，所述第二基层的厚度为100um~1cm，所述第二基层为浅色材料，所述第二基层的透光率为15%~90%，或者，所述第二基层为深色材料，所述第二基层的透光率为0%~80%；第二导电层，所述第二导电层设置于所述第二基层靠近所述第一导电结构的一侧，其中，所述第二导电层的厚度为2nm~100um；其中，所述光响应结构包括：第一光响应层，所述第一光响应层设置于所述第一导电结构与所述双稳态显示结构之间，其中，所述第一光响应层的厚度为2nm~100um，所述第一光响应层由光敏感材料制备而成或者与所述第一导电层形成整流结构的材料制备而成；和或第二光响应层，所述第二光响应层设置于所述第二导电结构与所述双稳态显示结构之间，其中，所述第二光响应层的厚度为2nm~100um，所述第二光响应层由光敏感材料制备而成或者与所述第二导电层形成整流结构的材料制备而成；其中，所述双稳态显示结构包括：液晶显示层，所述液晶显示层设置于所述第一导电结构与所述第二导电结构之间，并位于所述光响应结构的一侧，用于在电压调控的作用下呈书写状态、全局擦除状态，以及在电压调控以及在所述光响应结构呈导通状态的作用下呈局部擦除状态，其中，所述液晶显示层的厚度为10nm~100um；或墨水显示层，所述墨水显示层设置于所述第一导电结构与所述第二导电结构之间，并位于所述光响应结构的内侧，用于在电压调控以及在所述光响应结构呈导通状态的作用下呈书写状态、全局擦除状态、局部擦除状态，其中，所述墨水显示层的厚度为10nm~100um。

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