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申请/专利权人：成都莱普科技股份有限公司
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种连续绿光激光退火设备及退火方法。本申请提供的连续绿光激光退火设备，包括激光发射装置、扩束装置、聚焦球面镜、聚焦柱面镜以及移动载台。调节扩束装置、聚焦球面镜和聚焦柱面镜之间的距离以及聚焦球面镜和聚焦柱面镜的焦距，以调整条形平顶光束的窄方向的尺寸；通过移动载台的移动速度与条形平顶光束的窄方向的尺寸以控制激光的退火时间。本申请实施例提供的连续绿光激光退火设备的连续激光退火时间可以达到微米级，激光与非晶硅层相互作用，形成大尺寸的晶粒的多晶硅层，改善薄膜晶体管的载流子迁移速率。本发明提供的退火方法，基于上述的连续绿光激光退火设备，因此也具有上述的技术效果。
主权项：1.一种连续绿光激光退火设备，其特征在于，包括激光发射装置、扩束装置、聚焦球面镜、聚焦柱面镜以及移动载台；所述激光发射装置用于发射连续可调的激光；所述扩束装置用于增大或缩小光束直径尺寸；所述聚焦球面镜和所述聚焦柱面镜用于汇聚光束，以得到长方形均匀化、窄方向保持高斯特性的条形平顶光束；所述移动载台用于承载晶圆；调节所述扩束装置、所述聚焦球面镜和所述聚焦柱面镜之间的距离以及所述聚焦球面镜和所述聚焦柱面镜的焦距，以调整所述条形平顶光束的窄方向的尺寸；所述移动载台的移动速度与所述条形平顶光束的窄方向的尺寸以控制激光的退火时间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 成都莱普科技股份有限公司 连续绿光激光退火设备及退火方法
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