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一种基于蒙特卡洛模拟建立高能X射线参考辐射质的方法 

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申请/专利权人:西安聚能医工科技有限公司

摘要:本申请公开了一种基于蒙特卡洛模拟建立高能X射线参考辐射质的方法,包括以下步骤:利用蒙特卡洛模拟的方法确定高能X射线参考辐射质的附加过滤参数;在蒙特卡洛程序中建立X射线光机模型;设置X射线光管参数;将附加过滤参数添加至X射线光机模型中;获取相空间文件;解析相空间文件,得到粒子注量谱分布;对粒子注量谱分布进行数据处理,得到能谱数据;根据能谱数据计算平均能量、谱分辨率和半值层值。本申请通过利用蒙特卡洛模拟的方法确定高能X射线参考辐射质的附加过滤参数,并通过在蒙特卡洛程序中结合X射线光机模型和附加过滤参数,建立高能X射线参考辐射质,填补了空白能量段的辐射质特性。

主权项:1.一种基于蒙特卡洛模拟建立高能X射线参考辐射质的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1,利用蒙特卡洛模拟的方法确定高能X射线参考辐射质的附加过滤参数;步骤S2,在蒙特卡洛程序中建立与实际辐射场对应的X射线光机模型;步骤S3,设置所述X射线光机模型的X射线光管参数;步骤S4,将所述附加过滤参数添加至所述X射线光机模型中;步骤S5,获取所述X射线光机模型的粒子输运过程中的相空间文件;步骤S6,解析所述相空间文件,得到对应的粒子注量谱分布;步骤S7,对所述粒子注量谱分布进行数据处理,得到对应的模拟粒子注量的能谱数据;步骤S8,根据所述能谱数据计算对应的平均能量、谱分辨率和半值层值,所述附加过滤参数、所述平均能量、所述谱分辨率和所述半值层值构成相应的高能X射线参考辐射质。

全文数据:

权利要求:

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