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申请/专利权人：乾宇微纳技术(深圳)有限公司
摘要：本发明公开了一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶及其制备方法，属于光刻胶技术领域，包括以下组分：线性酚醛树脂、腰果壳油酚醛树脂、小分子酚、光敏剂、催化剂、溶剂、助剂；所述小分子酚包括双酚A、对苯二酚、对羟基苯甲醚、2‑乙基苯‑1,4‑二酚、2,6‑萘二酚中的至少一种。本发明所述的光刻胶致密性和交联密度高，所述的光刻胶具有极高分辨率和优异的耐氢氟酸（HF）腐蚀性能，在极高的分辨率（分辨率越线路越窄，越容易被腐蚀）的情况下，仍然具有极强的耐氢氟酸（HF）腐蚀性能，在光刻胶保护区域不被HF蚀刻，显影出来的没有光刻胶区域则会腐蚀形成蚀刻纹路，蚀刻完毕后，用氢氧化钠溶液即可退胶，具有广泛的应用前景。
主权项：1.一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶，其特征在于，包括以下重量份的制备原料：15~30份线性酚醛树脂、5~10份腰果壳油酚醛树脂、0.5~2份小分子酚、4~20份光敏剂、0.1~1份催化剂、45~70份溶剂、1~3份助剂；所述小分子酚包括双酚A、对苯二酚、对羟基苯甲醚、2-乙基苯-1,4-二酚、2,6-萘二酚中的至少一种。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 乾宇微纳技术(深圳)有限公司 一种耐HF酸蚀刻可强碱退的光刻胶及其制备方法
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